Первый российский фотолитограф по 350-нм технологии

В Москве создали первый российский фотолитограф по 350-нм технологии. Эта технология до сих пор востребована: множество чипов производятся по этим нормам, и для многих задач их возможностей более чем достаточно. В настоящее время ведётся работа над созданием следующего поколения — 130 нм. Это уже серьёзный шаг вперёд, поскольку рынок чипов 180–130 нм огромен: сюда входят чипы для пластиковых карт, контроллеров для систем управления двигателями самолётов, космических аппаратов и военной техники. В этом выпуске: 0:00 — первый отечественный фотолитограф с разрешением 350 нм 0:27 — ведётся работа над созданием следующего поколения — 130 нм 0:45 — комментарий мэра Москвы Сергея Собянина 1:09 — что такое фотолитограф 1:53 — конструкция фотолитографа 2:23 — программа по созданию своего фотолитографического оборудования 3:00 — кто работал над литографом 3:29 — участие белорусской компании 3:54 — создание двух опытных образцов эксимерного лазера 4:29 — «Микрон» и «ЗНТЦ» подписали соглашение о совместной разработке литографов ❗️ Следите за нами в соц.сетях: RUTUBE: https://rutube.ru/channel/24142067/ ВКонтакте: https://vk.com/engine.technology Дзен: https://zen.yandex.ru/mashnews Телеграм: https://t.me/news_engineering