ASML最怕的一幕出現了！中國EUV光源國產化衝90%！朗道燧岩LPP樣機曝光3-5年就能量產？稀土卡脖再捅荷蘭一刀！【#環球大戰線】20261016-P1 葉思敏 苑舉正 彭華幹 栗正傑

中國半導體設備自主化再現新進展！從EUV光源國產化、DUV多重曝光支撐7奈米製程，到納米壓印降低製造成本，中國正以三路並進策略挑戰ASML的技術優勢。不過，EUV樣機仍須突破輸出功率與長時間運轉穩定性，距離成熟量產仍有挑戰。中國能否突破美國出口管制、建立自主光刻設備供應鏈，將牽動全球半導體產業版圖。 主持人 葉思敏 台大哲學系教授 苑舉正 資深媒體人 彭華幹 陸軍退役少將 栗正傑 #中國半導體 #ASML #EUV光刻 #DUV光刻機 #中國晶片 #7奈米製程 #先進製程 #奈米壓印 #全球晶片戰 #美國晶片封鎖 #葉思敏 #苑舉正 #彭華幹 #栗正傑 中國光刻三路突圍撼動ASML！EUV國產率衝90% 朗道燧岩首公開極紫外光源 國產化率高達九成! 採用相同雷射等離子技術 光源自主化邁關鍵步! 極紫外光源仍面臨考驗 功率與穩定性成量產關鍵! ASML對中國銷售不減反增!第三季暴增109%! 北京管制關鍵半導體材料 衝擊ASML供應鏈! 歐盟考慮放寬企業限制 換取解除關鍵材料管制 發展奈米壓印光刻技術 繞開傳統光學曝光限制 奈米壓印設備完成交付 光晶片製造成本大幅降低! 壓印模板直接轉印圖案 低成本路線提供全新選擇 多條路線並進突圍 美國封鎖網面臨極大挑戰! 【#環球大戰線】 深入世界最前線 周一到周五 22:00 #葉思敏、#董覲僑 準時上線