Методы многократного проявления: создание структур за пределами литографического разрешения

Компания Lam Research демонстрирует свои передовые технологии многослойного формирования рисунка для создания мельчайших элементов на полупроводниках. На техпроцессах менее 20 нанометров самовыравнивающееся формирование рисунка используется для масштабирования шага линий, что требует увеличения количества этапов осаждения и травления для достижения размеров, превышающих предел разрешения литографии. Процесс самовыравнивающегося четырехкратного формирования рисунка позволяет создавать рисунок в четыре раза плотнее исходного, обеспечивая высокую точность рисунка и масштабируемость. По мере развития литографических решений ожидается дальнейшее развитие технологий многослойного формирования рисунка, и компания Lam Research будет играть решающую роль в предоставлении производителям возможности разрабатывать все более мощные устройства. Узнайте о карьерных возможностях в Lam Research: https://bit.ly/48cqg0g Веб-сайт Lam Research: https://www.lamresearch.com/ LinkedIn:   / lam-research   Facebook:   / lamresearchcorporation   X:   / lamresearch   Instagram:   / lam.research