S15.1 Технологии осаждения тонких пленок в полупроводниковой промышленности: PVD, CVD и далее (1)

v3-S15.1. Часть 1: Описание курса: Этот курс исследует важнейшую роль процессов осаждения в производстве полупроводников, уделяя особое внимание тому, как тонкие пленки формируются с атомной точностью для создания современных электронных устройств. Слушатели получат представление о принципах, механизмах и применении двух основных методов осаждения: физического осаждения из паровой фазы (PVD) и химического осаждения из паровой фазы (CVD). Курс рассматривает их различия, преимущества и ограничения, а также условия применения каждого из них. Примеры из реальной жизни иллюстрируют, как осаждение позволяет создавать транзисторы, память, датчики и межсоединения во всем, от смартфонов до квантовых компьютеров. Также рассматриваются новые технологии, такие как атомно-слоевое осаждение (ALD), управление процессами на основе ИИ и устойчивое производство, подчеркивая продолжающиеся инновации в этой важнейшей области. Этот курс, предназначенный для операторов, техников, инженеров и менеджеров, предоставляет базовые знания, необходимые для понимания того, как технологии тонких пленок влияют на производительность полупроводников, масштабирование устройств и глобальную цифровую инфраструктуру.