國產DUV重擊ASML 自研晶片路仍長｜信報專題｜AI競爭｜晶片｜DUV光刻機｜中芯｜EUV光刻機｜ASML｜中美AI角力｜台積電｜半導體【論盡熱話系列】

2026年7月27日，美國科技媒體The Information率先發文報道，指中國已開始大規模生產自主研發浸沒式深紫外光（DUV）光刻機，計劃將於今年交付首批約5台設備予中芯等國內領先晶片製造商。消息一出震撼市場，不少美國、亞洲半導體股票都應聲下跌。 最先進光刻機技術極紫外光（EUV）光刻機，以及次一級的浸沒式 DUV 光刻機的相關技術，可以說是製作高階晶片的必要工具，其中 2至3納米晶片製造更必須使用EUV光刻機。相關技術一直由歐美、日本掌控，EUV及DUV光刻機市場幾乎被荷蘭艾司摩爾 （ASML）壟斷。 然而，DUV與EUV光刻機究竟有何分別？為何中國可量產次一級的浸沒式DUV光刻機，會引發市場波動？中國打破技術壁壘、無須再受制於人的同時，是否意味中國在晶片製造，以及AI 競賽中能追上美國？ 【觀看更多】    • 長鑫DUV夾擊 中美AI形勢劇變｜信報高天佑專欄｜新聞點評｜AI｜長鑫科技｜Deep...      • 美擬封殺中國AI 港謀破局免遭殃｜信報鄧傳鏘專欄｜老總平常談｜中美AI大戰｜月之暗面...   【優惠】 YouTube獨家優惠：$38唔止試閱《信報》電子版14天，獨家延長至1個月！ 立即訂閱﹕https://bit.ly/4oztOTB $49試用EJFQ「信號」全方位股票分析系統14天 【立減$50優惠碼：50save】 https://bit.ly/4jscKMe #信報 #信報專題 #AI競爭 #晶片 #DUV光刻機 #中芯 #EUV光刻機 #ASML #中美AI角力 #台積電 #半導體 #論盡熱話