Краткое введение в электронно-лучевую литографию

В рамках программы независимых исследований (IAP) Массачусетского технологического института (MIT) Марк Мондол, заместитель директора Лаборатории наноструктур, и научный сотрудник Хуан Феррера провели гибридный мастер-класс по электронно-лучевой литографии. Электронно-лучевая литография позволяет создавать передовые полупроводниковые чипы; без неё минимальные размеры элементов были бы ограничены примерно 200 нм. В исследовательских условиях электронно-лучевая литография позволяет осуществлять прямую запись без использования масок, что обеспечивает быстрые и относительно недорогие изменения в конструкции. В этом докладе представлены основы электронно-лучевой литографии и переноса рисунка, включая энергию электронов, взаимодействие материалов, ограничения разрешения, электронно-лучевые резисты, производительность, коррекцию эффекта близости и характеристики различных инструментов электронно-лучевой литографии.